凌金柱 15862400250

半導體行業用超純水設備采用國際主流先*可靠產品，采用PLC+觸摸屏控制，全套系統自動化程度高，系統穩定性高。大大節省人力成本和維護成本，水利用率高，運行可靠，經濟合理。使設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。

　　設備工藝

　　預處理→UF系統→一級反滲透→PH調節→級間水箱→二級反滲透→中間水箱→中間水泵→紫外線殺*器→微孔過濾器→EDI裝置→氮封水箱→增壓水泵→拋光混床→循環增壓泵→用水對象(≥18MΩ.CM)

　特點

　　為滿足用戶需要，達到符合標準的水質，盡可能地減少各級的污染，延長設備的使用壽命、降低操作人員的維護工作量.在工藝設計上，取達國家自來水標準的水為源水，再設有介質過濾器，活性碳過濾器，鈉離子軟化器、精密過濾器等預處理系統、RO反滲透主機系統、離子交換混床(EDI電除鹽系統)系統等。 系統中水箱均設有液位控制系統、水泵均設有壓力保護裝置、在線水質檢測控制儀表、電氣采用PLC可編程控制器，真正做到了無人職守，同時在工藝選材上采用推*和客戶要求相統一的方法，使設備與其它同類產品相比較，具有更高的性價比和設備可靠性。

　　參數

　　1.原水水源(自來水，地下水井水，河水，湖水...)，除了自來水，其它的水源，需要提供水質報告，水源不一樣，處理工藝不一樣，費用就有很大的差別；

　　2.配置(需要高*配置還是一般配置，就是指水泵有國產的還是進口的，反滲透膜用海德能的還是陶氏的...)；

　　3.控制(用PLC全自動控制,還是手動控制)；

　　4.出水水質要達到什么標準，電阻率要達到多少，有什么用途，如果不知道，也沒關系，告訴我們您是做什么產品的，我們做給您設計出完全符合您生產要求的方案；

　　系統應用場合

　　半導體材料、器件、印刷電路板和集成電路

　　電解電容器生產鋁箔及工作件的清洗

　　電子管生產、電子管陰*涂敷碳酸鹽配液

　　顯像管和陰*射線管生產、配料用純水

　　黑白顯像管熒光屏生產、玻殼清洗、沉淀、濕潤、洗膜、管頸清洗用純水

　　液晶顯示器的生產、屏面需用純水清洗和用純水配液

　　晶體管生產中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制

　　集成電路生產中高純水清洗硅片

　　LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏

　　高品質顯像管、螢光粉生產

　　半導體材料、晶元材料生產、加工、清洗

　　超純材料和超純化學試劑、超純化工材料

　　實驗室和中試車間

　　汽車、家電表面拋光處理

　　光電產品、其他高科技精微產品