（馬錦玉 18151073719）

半導體超純水設備主要用于高技術的工業生產過程，尤其是半導體超純水設備這種要求較高的技術尖端行業，對水質要求非常嚴格。半導體超純水設備用水中K+、Na+、Cu2+、Zn2+、Fe2+、Cr6+、Mn2+等金屬離子含量都要在ppb級以下，總硅小于3ppb，TOC小于50ppb，電阻率在18M?·cm以上，半導體超純水設備水質中及其微量的雜質原子都會對產品造成極大的影響。

控制系統：采用PLC可編程序智能控制以及觸摸屏控制，開機時設備電控系統自動檢測，配備漏電保護裝置;全自動制水、儲水桶儲水，取水用水快速及時;停水或水壓不夠，系統自動斷電停機保護，無須專人職守。

　　深度除鹽：采用反滲透深度除鹽處理技術(針對源水含鹽量較高地區采用兩級反滲透)，可生產出高品質的純水作為后級純化、超純水設備的進水，使其保持更佳狀態運行和延長使用壽命。

半導體硅材料高純水設備的使用原理：

1、水進入EDI系統，主要部分流入樹脂/膜內部，而另一部分沿模板外側流動，以洗去透出膜外的離子。

2、樹脂截留水中的溶存離子。

3、被截留的離子在電極作用下，陰離子向正極方向運動，陽離子向負極方向運動。

4、陽離子透過陽離子膜，排出樹脂/膜之外。

5、陰離子透過陰離子膜，排出樹脂/膜之外。

6、濃縮了的離子從廢水流路中排出。

7、無離子水從樹脂/膜內流出。

超純水設備/半導體材料清洗超純水/超純水維護/超純水保養